一种纳米聚焦X射线组合透镜
专利权的终止
摘要

一种纳米聚焦X射线组合透镜,包括透镜主体,位于透镜主体下方的衬基,所述透镜主体上开有多个呈直线顺序排布的通孔状空气隙,每个通孔状空气隙与透镜主体材料一起构成一个组合透镜的折射单元,所述空气隙的截面形状为椭圆形,所述空气隙对应椭圆短轴方向的最大口径尺寸小于椭圆短轴尺寸,所述空气隙对应的椭圆长轴位于同一直线上,所述空气隙对应的椭圆尺寸逐渐减小,由大到小顺序排列,入射X射线束首先入射并通过具有最大尺寸椭圆形空气隙的折射单元。

基本信息
专利标题 :
一种纳米聚焦X射线组合透镜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820081867.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-07
授权号 :
CN201199454Y
授权日 :
2009-02-25
发明人 :
董文乐孜纯
申请人 :
浙江工业大学
申请人地址 :
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区
代理机构 :
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 :
王兵
优先权 :
CN200820081867.4
主分类号 :
G21K1/06
IPC分类号 :
G21K1/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/06
应用衍射、折射或反射,如单色仪
法律状态
2013-03-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101406519378
IPC(主分类) : G21K 1/06
专利号 : ZL2008200818674
申请日 : 20080107
授权公告日 : 20090225
终止日期 : 20120107
2009-02-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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