一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜
避免重复授权放弃专利权
摘要

一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜,包括一个一级X射线组合透镜、一个二级X射线组合透镜和一个光轴校准器共同组成,所述一级X射线组合透镜和二级X射线组合透镜固定于所述光轴校准器上,入射X射线束首先射入所述一级X射线组合透镜,经所述一级X射线组合透镜聚焦并出射后,射入所述二级X射线组合透镜再次聚焦,所述二级X射线组合透镜与所述一级X射线组合透镜之间有由所述一级X射线组合透镜的焦斑尺寸和所述二级X射线组合透镜的几何口径共同确定的间隔。

基本信息
专利标题 :
一种跨接式纳米聚焦X射线组合透镜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820081869.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-07
授权号 :
CN201156443Y
授权日 :
2008-11-26
发明人 :
乐孜纯董文梁静秋
申请人 :
浙江工业大学
申请人地址 :
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区
代理机构 :
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 :
王兵
优先权 :
CN200820081869.3
主分类号 :
G21K1/06
IPC分类号 :
G21K1/06  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/06
应用衍射、折射或反射,如单色仪
法律状态
2011-03-02 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101070686248
IPC(主分类) : G21K 1/06
专利号 : ZL2008200818693
申请日 : 20080107
授权公告日 : 20081126
放弃生效日 : 20080107
2008-11-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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