本发明提供成膜装置，匹配器以及阻抗控制方法。用于实现避免在紧接等离子体着火后发生的以负荷阻抗的急剧变化为起因的等离子的消失的阻抗控制。本发明的成膜装置包括：包括：电源；匹配电路；电极，经由所述匹配电路从所述电源接收电力，通过所述电力在容纳成膜对象的成膜室的内部产生等离子体；以及控制单元，控制所述匹配电路的阻抗，所述控制单元，在从所述电源向所述电极开始提供所述电力的第1时刻开始的第1期间内将所述匹配电路的阻抗保持一定，在从所述第1期间结束的第2时刻开始的第2期间内，响应来自所述电极的反射波电力而控制所述匹配电路的阻抗。