粘接片及其制造方法、以及半导体装置的制造方法及半导体装置
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摘要

本发明是粘接片及其制造方法、以及半导体装置的制造方法及半导体装置。本发明的附有层叠体的半导体晶片的制造方法包括:从具备剥离基材、基材薄膜和配置于所述剥离基材与所述基材薄膜之间的粘接着层的粘接片上剥离所述剥离基材,得到由所述基材薄膜及所述粘接着层所成的层叠体的剥离步骤;以及,将所述层叠体的所述粘接着层贴合于半导体晶片的贴合步骤;所述剥离基材上,由所述粘接着层侧的面形成有环状的切入部分;所述粘接着层为,按覆盖所述剥离基材的所述切入部分的内侧面整体来层叠;所述切入部分的切入深度为小于所述剥离基材的厚度,且为25μm以下;所述层叠体向所述半导体晶片的贴合以自动化的工序连续进行。

基本信息
专利标题 :
粘接片及其制造方法、以及半导体装置的制造方法及半导体装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN102169817A
申请号 :
CN201110060486.4
公开(公告)日 :
2011-08-31
申请日 :
2005-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
田中麻衣子宇留野道生松崎隆行古谷凉士增野道夫稻田祯一
申请人 :
日立化成工业株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 :
钟晶
优先权 :
CN201110060486.4
主分类号 :
H01L21/00
IPC分类号 :
H01L21/00  H01L21/60  H01L21/50  H01L21/68  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2014-10-22 :
授权
2014-10-08 :
著录事项变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101705907653
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利申请号 : 2011100604864
变更事项 : 申请人
变更前 : 日立化成工业株式会社
变更后 : 日立化成株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号
2011-10-12 :
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101120310402
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利申请号 : 2011100604864
申请日 : 20050930
2011-08-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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