一种均匀投射式电子光学结构

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摘要

本发明公开一种均匀投射式电子光学结构，包括：阴极区，束形成区，电子枪出口区；所述阴极区内设置有阴极，所述阴极投射电子并形成阴极发射面；所述电子从所述阴极发射面，经过所述束形成区、所述电子枪出口区射出，最终形成投射区域；所述束形成区包括至少两个子束形成区，每个子束形成区均为金属圆筒结构，并且各金属圆筒电位独立可调，用于控制所在区域内的电子束形态；所述束形成区对所述阴极发射面成一次倒立实像；所述投射区域为所述阴极发射面二次倒立实像，最终使得所述电子均匀投射。相比于现有技术，无需设置金属栅网，利用高压电场过聚焦，将阴极二次倒立实像投射到要求区域，通过优化的结构保证了投射区域的电子束均匀性。

基本信息

专利标题：

一种均匀投射式电子光学结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN108231527A

申请号：

CN201810055508.X

公开（公告）日：

2018-06-29

申请日：

2018-01-19

授权号：

CN108231527B

授权日：

2022-06-14

发明人：

赵健夏忠平朱滨

申请人：

上海极优威光电科技有限公司

申请人地址：

上海市杨浦区杨浦路2300号一楼

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201810055508.X

主分类号：

H01J43/28

IPC分类号：

H01J43/28 H01J43/06