轴调光斑方法及其系统
授权
摘要
本发明揭露了一种作用于物体的轴调光斑方法，其步骤包含(a)提供光线，以产生初始光斑；(b)设置光学组件以导引初始光斑能在物体的作用点形成投射光斑；(c)提供驱动单元以驱动光学组件调整投射光斑，使得投射光斑与初始光斑相同或相差一角度；(d)提供移动单元以选择性改变投射光斑作用在物体得作用点的位置。本发明另提供一种轴调光斑系统。
基本信息
专利标题 ：
轴调光斑方法及其系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110899964A
申请号 ：
CN201811380989.8
公开（公告）日 ：
2020-03-24
申请日 ：
2018-11-20
授权号 ：
CN110899964B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
吕鸿图
申请人 ：
鸿超光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾台北市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
王慧敏
优先权 ：
CN201811380989.8
主分类号 ：
B23K26/073
IPC分类号 ：
B23K26/073
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B23
机床；其他类目中不包括的金属加工
B23K
钎焊或脱焊；焊接；用钎焊或焊接方法包覆或镀敷；局部加热切割，如火焰切割；用激光束加工
B23K26/00
用激光束加工，例如焊接、切割、或打孔
B23K26/02
工件的定位和观测，如相对于冲击点；激光束的对正、瞄准或聚焦
B23K26/06
激光束的成形，例如，利用掩膜或多次聚焦
B23K26/073
激光点的整形
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2022-02-15 ：
著录事项变更
IPC(主分类) : B23K 26/073
变更事项 : 申请人
变更前 : 鸿超光电科技股份有限公司
变更后 : 鸿超环保能源股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾台北市
变更后 : 中国台湾台北市
变更事项 : 申请人
变更前 : 鸿超光电科技股份有限公司
变更后 : 鸿超环保能源股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾台北市
变更后 : 中国台湾台北市
2020-04-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B23K 26/073
申请日 : 20181120
申请日 : 20181120
2020-03-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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