场效应传感器
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摘要

公开了具有使用单个活性部分被官能化的导电沟道的单分子场效应传感器的装置和方法。纳米结构的区域(例如,诸如硅纳米线或碳纳米管)提供导电沟道。对于活性部分被链接到纳米结构的位置附近的纳米结构的一部分,纳米结构的陷阱态密度被修改。在一个示例中,半导体器件包括:源极;漏极;沟道,其包括纳米结构,该纳米结构具有陷阱态密度增加的修改部分,该修改部分还使用活性部分被官能化。栅极端子与纳米结构电连通。在将变化的电信号施加到与纳米结构沟道接触的离子溶液时,从半导体器件观察到的电流改变可以用于标识分析物的成分。

基本信息
专利标题 :
场效应传感器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111051871A
申请号 :
CN201880044249.9
公开(公告)日 :
2020-04-21
申请日 :
2018-06-29
授权号 :
CN111051871B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
B·博扬诺瓦
申请人 :
伊鲁米纳公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京市金杜律师事务所
代理人 :
黄倩
优先权 :
CN201880044249.9
主分类号 :
G01N27/414
IPC分类号 :
G01N27/414  G01N33/543  B82Y15/00  B82Y40/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N27/18
••••由于被试环境物质的热传导变化引起的电阻
G01N27/26
通过测试电化学变量;用电解或电泳法
G01N27/403
电池和电极组件
G01N27/414
对离子敏感的场效应晶体管或化学场效应晶体管,即ISFETS或CHEMFETS
法律状态
2022-05-10 :
授权
2020-05-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 27/414
申请日 : 20180629
2020-04-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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