等离子体处理中的空间分辨光学发射光谱(OES)
授权
摘要
公开了用于光学发射测量的方法、系统和装置。该装置包括用于通过设置在等离子体处理室的壁处的光学窗口来收集等离子体光学发射谱的收集系统。光学系统包括：镜，其被配置成穿过等离子体处理室扫描多条不重合射线；以及远心耦合器，其用于从等离子体收集光学信号并将该光学信号引导至用于测量等离子体光学发射谱的光谱仪。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理中的空间分辨光学发射光谱(OES)
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110998260A
申请号 ：
CN201880052425.3
公开（公告）日 ：
2020-04-10
申请日 ：
2018-07-11
授权号 ：
CN110998260B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
孟庆玲霍尔格·图特耶陈艳米哈伊尔·米哈洛夫
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
王萍
优先权 ：
CN201880052425.3
主分类号 ：
G01J3/443
IPC分类号 ：
G01J3/443 G01N21/68 G01N21/31
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色
G01J3/28
光谱测试
G01J3/443
发射光谱法
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-05-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 3/443
申请日 : 20180711
申请日 : 20180711
2020-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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