光投射方法和装置
授权
摘要
本发明提供一种光投射方法和装置,包括第一表面和第二表面的波导器件。所述第一表面包括第一光栅结构。所述波导器件构造为引导耦合入光束在第一表面和第二表面之间进行全内反射。所述第一光栅结构构造为干扰全内反射以使得至少部分耦合入光束从波导器件耦合出来并从第一表面投射出去，从波导器件耦合出的这部分耦合入光束形成耦合出光束，所述耦合出光束配置为在耦合出光束投射的表面上形成点阵。
基本信息
专利标题 ：
光投射方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110727050A
申请号 ：
CN201910073212.5
公开（公告）日 ：
2020-01-24
申请日 ：
2019-01-25
授权号 ：
CN110727050B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
吕方璐
申请人 ：
深圳市光鉴科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区南洋泾路555号4号楼707
代理机构 ：
上海东信专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨丹莉
优先权 ：
CN201910073212.5
主分类号 ：
G02B6/124
IPC分类号 ：
G02B6/124 G02B6/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
G02B6/12
集成光路类型
G02B6/122
基本光学元件，例如，传导光的光路
G02B6/124
短程透镜或集成光栅
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-06-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 6/124
申请日 : 20190125
申请日 : 20190125
2020-01-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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