阵列基板及其制造方法、显示屏及显示装置

授权

摘要

本申请提供一种阵列基板的制造方法、阵列基板、显示屏及显示装置，制造方法包括：提供基板，在基板上形成第一导电膜层；对第一导电膜层进行图形化，以形成位于第一显示区的第一导电层及位于第二显示区的第二导电层；在第一导电层及第二导电层上形成第二导电膜层；对第一显示区的第二导电膜层进行图形化，去除覆盖第一导电层以外区域的第二导电膜层材料，以形成仅位于第一导电层上的第三导电层；在同一工艺过程中，在第三导电层和第二导电层上形成发光结构层，以形成第一显示区和第二显示区的发光结构层，其中，第一显示区的发光结构层的第一电极包括第一导电层和第三导电层的叠层，第二显示区的发光结构层的第一电极包括第二导电层。

基本信息

专利标题：

阵列基板及其制造方法、显示屏及显示装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110767844A

申请号：

CN201910098900.7

公开（公告）日：

2020-02-07

申请日：

2019-01-31

授权号：

CN110767844B

授权日：

2022-06-03

发明人：

楼均辉王云

申请人：

云谷（固安）科技有限公司

申请人地址：

河北省廊坊市固安县新兴产业示范区

代理机构：

北京曼威知识产权代理有限公司

代理人：

方志炜

优先权：

CN201910098900.7

主分类号：

H01L51/56

IPC分类号：

H01L51/56 H01L21/84 H01L27/12 H01L27/32 G09F9/33