谐振器及其制造方法、滤波器、电子设备
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摘要

一种谐振器及其制造方法、滤波器、电子设备,制造方法包括:提供晶圆级衬底,包括压电振荡有效区,压电振荡有效区的衬底上形成有声学换能器;在压电振荡有效区的衬底上形成覆盖声学换能器的牺牲层;形成覆盖牺牲层的第一盖帽层;在第一盖帽层中形成至少一个释放孔;通过释放孔去除牺牲层,形成空腔;去除牺牲层后,形成覆盖第一盖帽层的第二盖帽层,第二盖帽层密封释放孔。所述空腔采用半导体工艺所形成,形成牺牲层和去除牺牲层的工艺简单,这降低了制造谐振器的工艺复杂度,而且,所述第一盖帽层与衬底的结合强度高、第二盖帽层和第一盖帽层的结合强度高,且第一盖帽层和第二盖帽层对所述空腔的密封性较好,这相应提高了谐振器的可靠性。

基本信息
专利标题 :
谐振器及其制造方法、滤波器、电子设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112117979A
申请号 :
CN201910760041.3
公开(公告)日 :
2020-12-22
申请日 :
2019-08-16
授权号 :
CN112117979B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
黄河向阳辉
申请人 :
中芯集成电路(宁波)有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市北仑区小港街道安居路335号3幢、4幢、5幢
代理机构 :
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
高静
优先权 :
CN201910760041.3
主分类号 :
H03H3/02
IPC分类号 :
H03H3/02  H03H9/02  H03H9/10  H03H9/145  H03H9/15  
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法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-01-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H03H 3/02
申请日 : 20190816
2020-12-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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