一种阵列基板及其摩擦配向方法
授权
摘要
本发明公开了一种阵列基板，包括显示区域以及位于所述显示区域外的快检绑定区域，所述显示区域上覆盖有液晶配向层；所述快检绑定区域内设有多个快检PAD，所述快检PAD设有多个过孔；所述多个过孔之间沿直线排列。该阵列基板可减轻摩擦液晶配向层的滚轮表面上的刷毛变形程度，提高液晶配向层的摩擦均匀度。本发明还公开了一种阵列基板的摩擦配向方法。
基本信息
专利标题 ：
一种阵列基板及其摩擦配向方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110596959A
申请号 ：
CN201910815037.2
公开（公告）日 ：
2019-12-20
申请日 ：
2019-08-30
授权号 ：
CN110596959B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
林建伟卓然然庄崇营李林
申请人 ：
信利半导体有限公司
申请人地址 ：
广东省汕尾市汕尾市区东冲路北段工业区
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
李健威
优先权 ：
CN201910815037.2
主分类号 ：
G02F1/1337
IPC分类号 ：
G02F1/1337
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1337
液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2020-01-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1337
申请日 : 20190830
申请日 : 20190830
2019-12-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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