配向液的涂布方法、阵列基板的制备方法
实质审查的生效
摘要

本申请涉及显示器件成膜工艺技术领域,尤其涉及一种配向液的涂布方法和阵列基板的制备方法。该涂布方法包括如下步骤:提供基板:将基板表面的预涂区分为相邻的第一涂布区域和第二涂布区域,第一涂布区域包括有效显示区和与有效显示区相邻的第一外围区,第二涂布区域包括与有效显示区相邻的第二外围区;其中,第二外围区与绑定区域相邻,第一外围区与所述绑定区域不相邻;将配向液先涂布在第一涂布区域,然后涂布在第二涂布区域。该涂布方法涂布工艺,不仅可以控制配向液的扩散使配向液不易覆盖绑定区域,而且可以均匀地覆盖有效显示区,这样形成的配向膜可以减少显示面板耳朵漏光现象。

基本信息
专利标题 :
配向液的涂布方法、阵列基板的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326217A
申请号 :
CN202111639936.5
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
熊钦孙松蒲洋卢劲松洪文进许哲豪袁海江
申请人 :
北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司
申请人地址 :
广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司二期A座4楼A-430室
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
方良
优先权 :
CN202111639936.5
主分类号 :
G02F1/1337
IPC分类号 :
G02F1/1337  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1337
液晶分子的表面诱导取向,例如借助列向层
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1337
申请日 : 20211229
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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