本发明提供一种用于一镀膜设备的气流导散装置及其应用，其中所述镀膜设备具有一腔室和至少一支架，其中所述支架被安装于所述腔室，其中所述支架用于支撑至少一基材，其中所述气流导散装置用于在被充入该腔室的气体与该支架之间的位置进行气体引导作用，其中所述气流导散装置包括至少一阻挡部和至少一导散部；其中所述阻挡部与所述导散部相连接，其中所述阻挡部具有一阻挡面，其中所述导散部具有与所述阻挡面相连接的一导散面和位于所述导散面的一组通孔，以供部分气体沿所述阻挡面的延伸方向扩散，而另一部分气体穿过所述通孔，从而尽可能均匀地在该基材的表面镀膜。