石墨炔和二硫化钼结合的非易失性多级光电存储器及制备
授权
摘要
本发明涉及光电材料应用技术领域,提供了一种石墨炔和二硫化钼结合的非易失性多级光电存储器及制备,该光电存储器包括自下而上依次设置的绝缘衬底、电荷束缚石墨炔层和电荷传输二硫化钼层;电荷传输二硫化钼层上相对设置源极和漏极;电荷束缚石墨炔层为石墨炔纳米薄膜,通过等离子刻蚀等方法获得;电荷传输二硫化钼层为二硫化钼纳米片,通过化学气相沉积法或者机械剥离获得。本发明利用石墨炔纳米薄膜作为电荷束缚层,二硫化钼作为电荷传输层,制备了非易失性多级光电存储器,实现了通过背栅脉冲和光脉冲调控石墨炔中束缚的电荷,在无背栅极作用下实现二硫化钼超低暗态电流和该存储器的多级光电存储功能;结构简单,易于制备,具有重大实用价值。
基本信息
专利标题 :
石墨炔和二硫化钼结合的非易失性多级光电存储器及制备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110729297A
申请号 :
CN201911018382.X
公开(公告)日 :
2020-01-24
申请日 :
2019-10-24
授权号 :
CN110729297B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
张跃温嘉玲张铮
申请人 :
北京科技大学
申请人地址 :
北京市海淀区学院路30号
代理机构 :
北京金智普华知识产权代理有限公司
代理人 :
皋吉甫
优先权 :
CN201911018382.X
主分类号 :
H01L27/11524
IPC分类号 :
H01L27/11524 H01L27/1157
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/10
在重复结构中包括有多个独立组件的
H01L27/105
包含场效应组件的
H01L27/112
只读存储器结构的
H01L27/115
电动编程只读存储器;其多步骤制造方法
H01L27/11517
具有浮栅的
H01L27/11521
以存储器核心区为特征的
H01L27/11524
具有单元选择晶体管的,例如,NAND
法律状态
2022-04-15 :
授权
2020-02-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/11524
申请日 : 20191024
申请日 : 20191024
2020-01-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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