本发明提供一种高能离子注入机束流的调节装置和方法，该装置包括离子源单元、吸极、磁分析器、第一和第二法拉第单元、反馈调节单元、加速单元、聚焦单元、扫描单元、偏转单元、透镜组以及靶室；离子被离子源单元旁边的吸极吸出，第一法拉第单元用于测定离子束流大小参数，第二法拉第单元设置于加速单元之前，测定离子束流的形状和位置参数；反馈调节单元接收并根据第一法拉第单元测定的离子束流大小，以及第二法拉第单元测定的离子束流的形状和位置，通过调整离子源单元的内部参数、吸极的位置参数和/或磁分析器参数，控制进入加速单元前的离子束流的大小、形状和位置参数达到加速单元最佳菜单中的离子束流的大小、形状和位置参数的要求。