一种辉光监测电路、辉光监测装置及刻蚀机
授权
摘要
本申请适用于辉光监测技术领域，提供了一种辉光监测电路、辉光监测装置及刻蚀机，所述辉光监测电路包括：用于将辉光转换为对应的监测电压信号的光电信号转换模块；用于将监测电压信号与参考电压源输出的预设参考电压阈值信号进行比较，并输出对应的电压比较信号的比较模块；根据电压比较信号和监测控制信号输出对应的逻辑控制信号的逻辑处理模块；根据逻辑控制信号生成对应的互锁开关信号，以控制所述刻蚀机的工作状态的监测开关模块。通过对辉光进行实时监控，在辉光出现异常时及时暂停刻蚀工艺，避免了工艺异常只能在下一步工艺完成后才能发现，从而导致产品质量不合格且产品无法返工而报废，极大的降低了刻蚀机的产品良率的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种辉光监测电路、辉光监测装置及刻蚀机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920633812.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-05
授权号 ：
CN209843671U
授权日 ：
2019-12-24
发明人 ：
刘国梁李明李理
申请人 ：
深圳方正微电子有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路5号方正微电子工业园
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
曾文洪
优先权 ：
CN201920633812.8
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2019-12-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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