基板刻蚀监测方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种基板刻蚀监测方法，其在与被刻蚀基板的一个侧边对应的位置设置一个EPS传感器，在与被刻蚀基板另一侧边对应的位置设置至少一个EPS传感器。本发明利用多个EPS传感器对基板的刻蚀情况进行监测，能够较准确的反映基板当前的状态，避免出现刻蚀不完全的情况。
基本信息
专利标题 ：
基板刻蚀监测方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1996566A
申请号 ：
CN200510112262.8
公开（公告）日 ：
2007-07-11
申请日 ：
2005-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田广彦
申请人 ：
上海广电NEC液晶显示器有限公司
申请人地址 ：
201108上海市闵行区华宁路3388号
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
薛琦
优先权 ：
CN200510112262.8
主分类号 ：
H01L21/66
IPC分类号 ：
H01L21/66 H01L21/306 H01L21/465 G02F1/136
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2009-12-16 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-08-13 ：
实质审查的生效
2007-07-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1996566A.PDF
PDF下载
