光学器件表面清洁装置及扫描检查系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种光学器件表面清洁装置及扫描检查系统，其中，光学器件表面清洁装置包括：吹气部件(5)，导流面(53)吹气部件(5)上设有吹气口(53)，导流面(53)吹气口(53)朝向光学器件的待清洁表面(6)设置；以及气源组件，被配置为向导流面(53)吹气部件(5)提供压缩气体，以使压缩气体通过导流面(53)吹气口(53)吹向导流面(53)待清洁表面(6)进行除污。此种清洁装置利用吹出压缩空气的方式，能够对光学器件表面进行自动清洁，可降低光学器件的维护成本和维护难度，并降低光学器件的误检测率，从而提升设备的使用效率，提升客户对设备的使用体验。
基本信息
专利标题 ：
光学器件表面清洁装置及扫描检查系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920671159.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-10
授权号 ：
CN210023081U
授权日 ：
2020-02-07
发明人 ：
李柯许艳伟孟德芳叶立超喻卫丰胡煜宗春光孙尚民
申请人 ：
同方威视技术股份有限公司;同方威视科技（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
张文超
优先权 ：
CN201920671159.4
主分类号 ：
B08B5/02
IPC分类号 ：
B08B5/02 G01N21/94
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁，如吹清凹处
法律状态
2020-02-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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