双摄像头曝光同步校正装置
授权
摘要
本公开涉及一种双摄像头曝光同步校正装置，其中，包括：托架，设置有与终端外形匹配的容纳槽，在所述容纳槽朝向遮光腔体底部的一侧设置有露出所述终端的双摄像头的通孔；遮光腔体，包括防透光壳体，在所述防透光壳体上开设有用于所述托架插入或拔出所述遮光腔体内腔的托架开口；均匀光源，设置于所述遮光腔体内腔的底部，发光面朝向所述通孔。通过本公开可在终端产线上进行曝光同步校正。
基本信息
专利标题 ：
双摄像头曝光同步校正装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920809533.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-30
授权号 ：
CN209692907U
授权日 ：
2019-11-26
发明人 ：
赵宏杰
申请人 ：
北京迈格威科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区科学院南路2号A座316-318
代理机构 ：
北京钲霖知识产权代理有限公司
代理人 ：
冯志云
优先权 ：
CN201920809533.2
主分类号 ：
H04N5/235
IPC分类号 ：
H04N5/235 H04N5/225
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法律状态
2019-11-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN209692907U.PDF
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