气体供给系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种气体供给系统，用于给用气组件供气，包括：厂务气源和备用气源，厂务气源通过管路连接用气组件；备用气源与厂务气源并联设置，备用气源被配置为在厂务气源异常时为用气组件供气。上述的气体供给系统包括备用气源，备用气源能够在厂务气源出现异常时为用气组件供气，以确保用气组件在厂务气源出现异常后仍然能够稳定工作。上述的气体供给系统应用于激光退火工艺能够保证用气组件稳定吸附硅片，避免硅片掉落，从而可以确保硅片传输安全可靠，有利于提高激光退火工艺效率，节约激光退火工艺成本。

基本信息

专利标题：

气体供给系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920908551.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-17

授权号：

CN210069488U

授权日：

2020-02-14

发明人：

刘凯董洪波王刚张向飞

申请人：

上海微电子装备(集团)股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

代理人：

胡彬

优先权：

CN201920908551.6

主分类号：

F17D1/02

IPC分类号：

F17D1/02 F17D3/01