原料气体供给系统和原料气体供给方法
实质审查的生效
摘要
本发明为一种对处理装置供给原料气体的原料气体供给系统，所述原料气体是通过将固体原料气化来生成的，所述原料气体供给系统包括：将所述固体原料气化来生成所述原料气体的气化装置；送出机构，其从贮存有分散系的贮存容器向所述气化装置送出所述分散系，其中，所述分散系是在液体中分散所述固态原料而成的；和分离机构，其在所述气化装置内从所述分散系中分离出所述固体原料。
基本信息
专利标题 ：
原料气体供给系统和原料气体供给方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114391051A
申请号 ：
CN202080063295.0
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2020-09-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冈部庸之大仓成幸小森荣一
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN202080063295.0
主分类号 ：
C23C16/06
IPC分类号 ：
C23C16/06 C23C16/448 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/06
以金属材料的沉积为特征的
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/06
申请日 : 20200909
申请日 : 20200909
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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