清洁装置及离子植入设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种清洁装置及离子植入设备，所述清洁装置包括刷子、控制模块和用于固定所述刷子的基座，所述控制模块用于控制所述基座带动所述刷子在所述磁分析器单元的腔室内移动，以使所述刷子与所述腔室的内壁相抵触并擦拭所述腔室的内壁。本实用新型所提供的清洁装置和离子植入设备不仅结构简单，使用方便，而且能够显著降低半导体设备周期性维护的次数，从而提高出货率。
基本信息
专利标题 ：
清洁装置及离子植入设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920911259.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-17
授权号 ：
CN210207978U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
曹旭东廖宜专吴宗祐林宗贤
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN201920911259.X
主分类号 ：
B08B9/087
IPC分类号 ：
B08B9/087 H01J37/317 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B9/00
用专门的方法或设备清洁空心物品
B08B9/08
清洗容器，如槽的清洗
B08B9/087
包括使用工具，如刷子、刮刀的方法的
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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