一种离子植入设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种离子植入设备，包括：排气单元，用于排出未参与离子植入的离子束，所述排气单元包括：排气泵，用于为排出未参与离子植入的离子束提供动力；气体净化单元，用于对未参与离子植入的离子束进行净化；以及连接管，连接于所述排气泵和所述气体净化单元，所述连接管的外表面设置有由绝缘材料制成的绝缘管套，所述连接管包括分别连接于所述排气泵和所述气体净化单元之间的第一连接管和第二连接管，第一连接管和第二连接管能够择一地连通所述排气泵和所述气体净化单元，以在不影响所述排气单元正常运行的前提下实现对未连通的所述第一连接管或第二连接管的更换，减少了更换连接管时设备宕机的时间，提高了设备的利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种离子植入设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921665316.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-30
授权号 ：
CN210535624U
授权日 ：
2020-05-15
发明人 ：
刘文彬廖宜专吴宗祐林宗贤
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海立群专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨楷
优先权 ：
CN201921665316.7
主分类号 ：
H01J37/317
IPC分类号 ：
H01J37/317
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入
法律状态
2020-05-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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