等离子喷涂靶材表面除杂系统
授权
摘要
本实用新型涉及等离子喷涂靶材表面除杂系统，包括吸附管道，吸附管道包括外管、设置在外管内部的内管，外管与内管之间设置有吸附腔，外管包括第一直管和第一锥管，内管包括第二直管和第二锥管，第一锥管的小端与第二锥管的小端之间设置有与吸附腔相连通的开口；外管的外部设置有连管，内管的内壁设置有隔热层，外管的外侧固设有夹套，夹套与外管的外侧壁之间设置有换热腔。所述等离子喷涂靶材表面除杂系统能够除去喷射到靶材附近反射流中的金属粉尘，这能够有效降低靶材喷涂区域附近的粉尘，在来回往复喷涂时能够显著降低靶材内部的夹生粉尘含量，等离子喷涂的合格率高。
基本信息
专利标题 ：
等离子喷涂靶材表面除杂系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920932584.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-20
授权号 ：
CN210151204U
授权日 ：
2020-03-17
发明人 ：
祖芳凝
申请人 ：
北京航百川科技开发中心
申请人地址 ：
北京市通州区马驹桥镇景盛南二街25号联东u谷北二区15B
代理机构 ：
北京东方芊悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈益奇
优先权 ：
CN201920932584.4
主分类号 ：
C23C4/134
IPC分类号 ：
C23C4/134 C23C4/10
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/134
等离子喷涂
法律状态
2020-03-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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