一种半导体设备蚀刻装置雾化器部件专用清洗支架

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摘要

一种半导体设备蚀刻装置雾化器部件专用清洗支架，属于蚀刻装置清洗治具领域。支撑板A一侧与底板A垂直连接，支撑板A另一侧设置有V型槽A，V型槽A与定位槽A相连，定位槽A两侧分别设置卡槽A；底板B上依次垂直设置支撑板B、支撑板C和支撑板D，支撑板B一侧设有V型槽B，支撑板B上还设有定位孔，支撑板C一侧设置有V型槽C，V型槽C与定位槽B相连，定位槽B两侧分别设置卡槽B，支撑板D一侧设有V型槽D，当支架A和支架B相连时，支撑板A一面与支撑板C一面贴合，定位槽A和定位槽B相通，卡槽B和对应的卡槽A通过键连接。本实用新型可以提高支撑雾化器部件的稳定性，不再需要人工支撑，操作简单方便。

基本信息

专利标题：

一种半导体设备蚀刻装置雾化器部件专用清洗支架

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920953913.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-24

授权号：

CN210160126U

授权日：

2020-03-20

发明人：

朱光宇贺贤汉李泓波张正伟王松朋陈智慧

申请人：

富乐德科技发展（大连）有限公司

申请人地址：

辽宁省大连市保税区海明路179-8号（环普国际产业园B04栋）

代理机构：

大连智高专利事务所(特殊普通合伙)

代理人：

盖小静

优先权：

CN201920953913.3

主分类号：

B08B13/00

IPC分类号：

B08B13/00