蚀刻装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种蚀刻装置，包括：壳体，壳体包括蚀刻腔和工具腔，蚀刻腔包括相对的底壁和顶壁，以及连接顶壁和底壁的侧壁；工具腔与蚀刻腔通过侧壁隔开；上电极，设于顶壁；下电极，设于底壁，并用于放置晶圆；活动门，设于侧壁，并用于连通蚀刻腔和工具腔；以及电离组件，容置于工具腔，并用于通过活动门伸入蚀刻腔，并电离晶圆周围的气体。通过设置电离组件和活动门，晶圆放电制程后，电离组件通过活动门伸入蚀刻腔，电离晶圆周围的气体，使得晶圆周围的气体被电离形成正负离子，中和晶圆表面的残余电荷，使得晶圆放电完全，能避免晶圆移位、掉落甚至破损。
基本信息
专利标题 ：
蚀刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022223982.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN212934549U
授权日 ：
2021-04-09
发明人 ：
林帅苏财钰张涛张彬彬苟先华
申请人 ：
重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号（1号厂房）
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
熊永强
优先权 ：
CN202022223982.4
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2021-04-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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