一种划片机划片去离子水流量自动报警装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型涉及一种划片机划片去离子水流量自动报警装置,包括划片机和设置在划片机上的清洗观测框,所述清洗观测框内部设置有清洗水管,所述清洗水管设置有多条,所述清洗水管的中间连接有流量传感器,所述清洗水管靠近流量传感器的两侧分别设置有阀门,所述清洗观测框的顶部安装有与清洗水管数量相等的报警器,还包括PLC控制器,所述PLC控制器与流量传感器信号连接,所述PLC控制器分别与报警器和阀门电性连接。本实用新型通过在清洗水管上设置流量传感器,实时监控去离子水的流量,使其保持在正常流速,对晶圆片表面会残留切削微粒进行良好的清洗,提高晶圆片后续集成电路的封装质量。

基本信息
专利标题 :
一种划片机划片去离子水流量自动报警装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921160156.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-23
授权号 :
CN210535629U
授权日 :
2020-05-15
发明人 :
范荣定夏昊天葛海波
申请人 :
江苏长晶科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南京市江北新区研创园团结路99号孵鹰大厦1087室
代理机构 :
南京禾易知识产权代理有限公司
代理人 :
仇波
优先权 :
CN201921160156.0
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  G01F1/52  G01F15/06  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-03-15 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 21/67
变更事项 : 专利权人
变更前 : 江苏长晶科技有限公司
变更后 : 江苏长晶科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 210000 江苏省南京市江北新区研创园团结路99号孵鹰大厦1087室
变更后 : 210000 江苏省南京市中国(江苏)自由贸易试验区南京片区研创园腾飞大厦C座13楼
2020-05-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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