一种新型激光掺杂选择性发射极图案

授权

摘要

本实用新型涉及激光掺杂选择性发射极领域。一种新型激光掺杂选择性发射极图案，正面激光图栅线数量为106，其中相邻线距为1.4762mm，每根线为镂空虚线，其中实线部分长为0.6mm,虚线部分长为0.12mm，另外相邻两根图栅线的镂空虚线之间交错相间，相间距离为0.3mm。通过优化正面激光图案，改善制作碱抛选择性发射极时激光掺杂区容易被刻蚀的问题，保证碱抛选择性发射极的工艺稳定，效率提升0.2%。

基本信息

专利标题：

一种新型激光掺杂选择性发射极图案

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921272061.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-07

授权号：

CN210110822U

授权日：

2020-02-21

发明人：

杨飞飞鲁贵林赵科巍张波张尧吕爱武杜泽霖李陈阳郭丽郭卫董建明邓铭

申请人：

山西潞安太阳能科技有限责任公司

申请人地址：

山西省长治市郊区漳泽新型工业园区

代理机构：

太原市科瑞达专利代理有限公司

代理人：

李富元

优先权：

CN201921272061.8

主分类号：

H01L31/18

IPC分类号：

H01L31/18 B23K26/70 B23K26/362