一种用于石英晶片生产的浸蚀装置

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摘要

本实用新型提供一种用于石英晶片生产的浸蚀装置，包括浸蚀槽和晶片盛放架，所述浸蚀槽内盛装有浸蚀液，所述浸蚀槽的底部设有电机，所述浸蚀槽内设有搅拌轴，所述搅拌轴与所述电机相连，所述搅拌轴上设有螺旋搅拌叶；所述晶片盛放架包括若干圆形阵列分布的内杆和外杆，所述外杆的顶部设有挂钩，所述挂钩挂在所述浸蚀槽的侧壁上，所述内杆和所述外杆之间固定连接有若干层环形的固定板，所述固定板顶部设有若干均匀分布的卡槽，所述固定板的底部设有与所述卡槽相通的通槽，所述通槽的截面积小于所述卡槽的截面积，所述卡槽内放置晶片。本实用新型的浸蚀槽内浸蚀液的浓度和温度分布均匀，且晶片不易碰触，浸蚀处理效果较好。

基本信息

专利标题：

一种用于石英晶片生产的浸蚀装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921278460.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-08

授权号：

CN210438640U

授权日：

2020-05-01

发明人：

夏良军

申请人：

菲特晶（南京）电子有限公司

申请人地址：

江苏省南京市经济技术开发区新港大道80-2号

代理机构：

南京常青藤知识产权代理有限公司

代理人：

金迪

优先权：

CN201921278460.5

主分类号：

C03C15/00

IPC分类号：

C03C15/00