一种高性能的光学用真空腔体
授权
摘要
本实用新型属于光学用真空腔体技术领域，尤其为一种高性能的光学用真空腔体，包括腔体本体、电机、旋转轴、夹具、稳定装置、合页、挡盖和开盖装置，所述电机安装在腔体本体的上端，所述旋转轴安装载电机的下端，所述夹具安装在旋转轴的下端，所述稳定装置安装在夹具和腔体本体之间，所述合页安装在腔体本体内部的两侧，所述挡盖安装在合页的一侧，所述开盖装置安装在挡盖的下方，所述开盖装置包括记忆弹簧。本实用新型通过设置开盖装置，提高了镀膜质量，使镀膜不会出现薄膜不均、性能不稳和附着不牢固的缺点，通过设置稳定装置，使滚轮能够配合夹具旋转的更加稳定，旋转过程更加平稳，从而提高了镀膜质量。
基本信息
专利标题 ：
一种高性能的光学用真空腔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921488515.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-06
授权号 ：
CN211112197U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
杨玉飞
申请人 ：
江阴慕达斯真空设备有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市城东街道山观澄山路697号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921488515.5
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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