卧式扩散炉的石英管
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摘要

卧式扩散炉的石英管。涉及半导体加工技术领域,尤其涉及卧式扩散炉的石英管的结构改进。提供了结构紧凑合理,提高氧化膜厚度均匀性的卧式扩散炉的石英管。包括管体,所述管体上靠近进气口处设有气体搅拌机构;所述气体搅拌机构包括风叶和与所述管体的内腔适配的导流柱;所述导流柱包括依次连通的导向部、混合仓和扩散仓;所述导向部上设有若干倾斜设置的导流孔;若干所述导流孔的进气口分别均布设置在所述导流柱的端部,所述导流孔的出气口分别与所述混合仓连通;所述混合仓位于所述导向部与扩散部之间,靠近所述导流部的中部位置;所述风叶活动设置在所述扩散仓上,位于中部位置。本实用新型具有结构紧凑合理,提高氧化膜厚度均匀性等特点。

基本信息
专利标题 :
卧式扩散炉的石英管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921651714.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-29
授权号 :
CN210167335U
授权日 :
2020-03-20
发明人 :
陆益邹威赵晓非张凡文裘俊庆王毅
申请人 :
扬州扬杰电子科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省扬州市邗江区平山堂北路江阳创业园三期
代理机构 :
扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
郭翔
优先权 :
CN201921651714.3
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-03-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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