一种真空镀膜机腔体冷却装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜机腔体冷却装置，其结构包括框体、进气口、安装脚、进管、循环管、出管、风扇和固定机构，为解决冷却装置在对管路清洗时较为费力和不便，影响整体操作效率的问题，通过在框体上设置了固定机构，再旋动旋钮，使其带动螺杆转动后，令螺杆通过抵消机构对连杆施力，令连杆对夹块施力，使夹块通过滑轨在壳体中滑动，使防滑槽与进管和出管的夹紧固定和分离，达到便捷有效的对管路进行装卸清洗，减少劳动施力和时间，提高操作效率的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜机腔体冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921681710.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-09
授权号 ：
CN211036067U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
刘维松李健涂小林
申请人 ：
赫得纳米科技重庆有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区青杠街道五显村
代理机构 ：
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林慰敏
优先权 ：
CN201921681710.X
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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