圆片旋涂改方片的结构
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摘要

本实用新型公开了一种圆片旋涂改方片的结构,包括在圆片上形成胶层的旋涂设备,所述的圆片可拆卸固定在旋涂设备上,所述圆片上设有若干相互交叉的分割槽,所述的分割槽围合成方片外形;所述的分割槽为激光切割缝,所述的胶层与分割槽开口处分别位于圆片相反侧面上;所述的圆片直径长度大于方片的对角线长度,所述圆片边缘与方片边缘之间设有操作区。本实用新型设计简单,使用灵活,既能满足客户的要求,又能充分发挥旋涂的优势,可操作性高,具有阶段适用性。

基本信息
专利标题 :
圆片旋涂改方片的结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921841315.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-30
授权号 :
CN210428085U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
杨巨椽葛文志陈银培丁宇能朱毅翁钦盛
申请人 :
杭州美迪凯光电科技股份有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道20号大街578号
代理机构 :
杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
丁少华
优先权 :
CN201921841315.3
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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