一种镀膜机的循环装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

一种镀膜机的循环装置,包括镀膜箱和箱盖,所述箱盖的后侧与镀膜箱的后侧连接有合页,镀膜箱与箱盖通过合页活动连接;所述镀膜箱内包括有前端的镀膜腔以及位于镀膜腔两侧的注料腔,镀膜腔与注料腔之间安装有隔板,隔板上开设有插口;所述镀膜腔底部还安装有矩形槽状的夹具,所述夹具的底部四角成型有撑起块,所述夹具通过撑起块固定在镀膜腔的底部;所述注料腔内安装有镀膜枪,所述镀膜枪的枪口朝向隔板并且穿插过隔板的插口;所述镀膜腔的底部还开设有进气口,进气口位于夹具的下方,所述镀膜腔的后侧壁上还开设有喷气口;所述镀膜箱内的后端还安装有气泵,所述气泵的喷气口连接有出气管,气泵的进气口连接有吸气管,所述出气管与喷气口连接。

基本信息
专利标题 :
一种镀膜机的循环装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921847015.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-30
授权号 :
CN210856322U
授权日 :
2020-06-26
发明人 :
张大鹏樊静波
申请人 :
广东东华光电科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市厚街镇汀山村坑口工业区
代理机构 :
东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汤冠萍
优先权 :
CN201921847015.6
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34  C23C14/10  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-07-20 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C23C 14/34
变更事项 : 专利权人
变更前 : 广东东华光电科技有限公司
变更后 : 广东东华光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 523000 广东省东莞市厚街镇汀山村坑口工业区
变更后 : 523000 广东省东莞市厚街镇汀山广场北三路3号
2020-06-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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