用于点源透过率测试的双球型腔体及点源透过率测试系统

授权

摘要

本实用新型属于光学系统杂散光测试领域，涉及一种用于点源透过率测试的双球型腔体及点源透过率测试系统，解决双圆柱型腔体结构在被测相机测试角度为非水平方向的测量时，一次反射的杂散光线仍然存在很大几率直接进入到相机入瞳，影响PST测试精度的问题。该双球型腔体，由两个半球壳相对接而成，其横竖截面与双圆柱型腔体相同，截面在方位和俯仰上同时兼顾双圆柱型腔体的消光优点，使得相机测试角度为非水平方向时，腔体内壁反射光线经过多次反射后，能够进入到相机内部的杂光几乎可以忽略向完全不受限，保证杂光测试的顺利进行。

基本信息

专利标题：

用于点源透过率测试的双球型腔体及点源透过率测试系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921878720.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-04

授权号：

CN211147991U

授权日：

2020-07-31

发明人：

李朝辉赵建科徐亮刘峰刘勇李晓辉张玺斌午建军

申请人：

中国科学院西安光学精密机械研究所

申请人地址：

陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号

代理机构：

西安智邦专利商标代理有限公司

代理人：

汪海艳

优先权：

CN201921878720.2

主分类号：

G01M11/02

IPC分类号：

G01M11/02