一种新型真空腔体
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摘要

本实用新型公开了一种新型真空腔体,主要包括外框、导流壳、转座、插管、中杆、滑块和盖板,所述外框底端设置有通风口,所述外框底端位于通风口处固定安装有导流壳,导流壳顶端固定安装有盖板,盖板底端侧壁与导流壳围设形成十字槽,所述盖板端部靠近导流壳边缘处侧壁处开设有端孔,所述盖板位于十字槽范围的侧壁设置有对称设置的第一折片、第二折片和第三折片。本实用新型在结构上设计合理,本装置内部采用遮蔽型破气结构,在不影响腔体内部工作空间的情况下,降低气体对料件的直接冲击;外部改进型破气结构,增大破气孔径,减小破气气流速度,降低气体对料件的直接冲击。

基本信息
专利标题 :
一种新型真空腔体
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921895150.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-05
授权号 :
CN210950069U
授权日 :
2020-07-07
发明人 :
姜建峰
申请人 :
赫得纳米科技(昆山)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市昆山开发区高科技工业园都市路21号
代理机构 :
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汤东凤
优先权 :
CN201921895150.8
主分类号 :
F16K17/20
IPC分类号 :
F16K17/20  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F16
工程元件或部件;为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施;一般绝热
F16K
阀;龙头;旋塞;致动浮子;通风或充气装置
F16K
阀;龙头;旋塞;致动浮子;通风或充气装置
F16K17/00
安全阀;平衡阀
F16K17/20
流量限制阀
法律状态
2020-07-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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