一种循环利用的单晶炉水冷装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种循环利用的单晶炉水冷装置，包括炉体、电机和坩埚，所述炉体的内壁上嵌入式安装有电机，且电机的输出端连接有螺杆，所述螺杆轴连接于导槽内，且导槽开设于炉体的内壁上，所述螺杆上螺纹套设有活动板，所述水冷套内贯穿连接有水冷管，且水冷管位于第二导孔和第一导孔之间，所述水冷管的一端螺纹连接有导水管，且导水管的一端贯穿炉体位于其外侧，所述水冷套的外侧贯穿连接有导气管，且导气管的一端位于气腔内，并且导气管的另一端贯穿炉体位于其外侧。该循环利用的单晶炉水冷装置，可以调节水冷管的上下位置，根据液位面的浮动，增加冷却空间，同时通过风冷配合水冷，提高冷却效率。
基本信息
专利标题 ：
一种循环利用的单晶炉水冷装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922071788.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-27
授权号 ：
CN211497858U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
杨昊
申请人 ：
弘元新材料（包头）有限公司
申请人地址 ：
内蒙古自治区包头市青山区装备制造产业园区管委会A座516室
代理机构 ：
北京睿博行远知识产权代理有限公司
代理人 ：
张燕平
优先权 ：
CN201922071788.6
主分类号 ：
C30B15/00
IPC分类号 ：
C30B15/00 C30B29/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长，例如Czochralski法
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
