掩膜版尺寸测量装置
授权
摘要
一种掩膜版尺寸测量装置，包括测量平台以及至少两个距离测量仪，所述测量平台上设有放置区，所述放置区用于放置待测掩膜版；该距离测量仪固定在所述测量平台上，所述距离测量仪位于所述放置区以外，且相对地设置在放置区两侧，通过所述至少两个距离测量仪对待测掩膜版进行测量，可快速准确的获得所述待测掩膜版的外观尺寸信息，使得掩膜版尺寸的测量效率提高。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版尺寸测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922119150.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-29
授权号 ：
CN210773913U
授权日 ：
2020-06-16
发明人 ：
王栋张盛
申请人 ：
深圳市龙图光电有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼
代理机构 ：
深圳鼎合诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
郭燕
优先权 ：
CN201922119150.5
主分类号 ：
G01B11/02
IPC分类号 ：
G01B11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2020-06-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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