膜厚自动控制镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了一种膜厚自动控制镀膜机，所述镀膜机包括壳体、工作架、驱动机构、溅射镀膜机构，以及至少一个膜厚监测机构，所述工作架设有基片载体，所述工作架通过驱动机构驱动相对壳体旋转，所述工作架绕第一转轴转动；所述溅射镀膜机构和基片载体设于壳体内部，所述膜厚监测机构设有膜厚控制仪、膜厚传感器和振荡器，所述膜厚控制仪设于镀膜机的电气控制柜，所述膜厚传感器安装于基片载体上，所述振荡器安装于工作架上。本实用新型提供膜厚自动控制镀膜机，结构简洁、布设规律，膜厚检测精度高。
基本信息
专利标题 ：
膜厚自动控制镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922487201.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211570764U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
孙桂红黄乐黄国兴祝海生陈立金诚明唐洪波唐莲寇立杨恒
申请人 ：
湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请人地址 ：
湖南省湘潭市九华经济区盛世路8号
代理机构 ：
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
周琼
优先权 ：
CN201922487201.X
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54 C23C14/35 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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