基于离子束辅助纳米叠层解决电子束沉积薄膜龟裂的方法
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摘要
一种基于离子束辅助纳米叠层解决电子束沉积薄膜龟裂的方法，首先通过计算获得纳米叠层周期数，利用离子束辅助沉积技术在基底表面沉积高、低折射率交替的纳米叠层，该离子束辅助纳米叠层薄膜呈现压应力，且其中每层膜的厚度仅为几个纳米；然后利用电子束沉积技术沉积功能膜层，以满足薄膜特定的功能要求。本发明能够解决电子束沉积薄膜在特定使用环境发生薄膜龟裂的问题，适用于任意折射率的光学玻璃基底，提升了应力调控的范围、膜系设计和制备的灵活度、镀膜设备的适用性，并降低了对薄膜激光损伤阈值的影响。
基本信息
专利标题 ：
基于离子束辅助纳米叠层解决电子束沉积薄膜龟裂的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111575657A
申请号 ：
CN202010327812.2
公开（公告）日 ：
2020-08-25
申请日 ：
2020-04-23
授权号 ：
CN111575657B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
朱美萍刘天宝李静平邵建达孙建王建国邵宇川
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 ：
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张宁展
优先权 ：
CN202010327812.2
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/10 C23C14/08 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2020-09-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/30
申请日 : 20200423
申请日 : 20200423
2020-08-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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