一种低成本制备TC4钛合金溅射靶材的方法
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摘要
本发明公开了一种低成本制备TC4钛合金溅射靶材的方法，属于金属材料加工技术领域。通过三火次等温轧制的方法，将EB炉熔炼TC4钛合金铸锭沿着长度方向进行单向轧制，总压下量为86％‑90％。该发明不仅简化了传统钛合金加工工艺流程，有效降低了生产成本，而且制备得到的TC4钛合金靶材致密度好、显微组织均匀，力学性能满足国际标准的要求。
基本信息
专利标题 ：
一种低成本制备TC4钛合金溅射靶材的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111441020A
申请号 ：
CN202010363354.8
公开（公告）日 ：
2020-07-24
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN111441020B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
王伟王萌蔡军张卫强张志波朱羽张浩泽史亚鸣黄海广王快社
申请人 ：
西安建筑科技大学
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔路13号
代理机构 ：
西安恒泰知识产权代理事务所
代理人 ：
李婷
优先权 ：
CN202010363354.8
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/14 C22F1/18 B21B1/38 B21B3/00 B21B37/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2020-08-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20200430
申请日 : 20200430
2020-07-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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