投射光学系统和投影仪
授权
摘要
投射光学系统和投影仪，能够在不形成中间像的情况下，投射抑制了畸变像差的放大像。投射光学系统(3A)由具有负屈光力的第1透镜组(LG1)、具有正屈光力的第2透镜组(LG2)、具有正屈光力的第3透镜组(LG3)构成。第1透镜组(LG1)具有3片负透镜，第2透镜组(LG2)具有正透镜，第3透镜组(LG3)具有多个正透镜和第2接合透镜(SL2)。第1透镜组(LG1)的负透镜均为单透镜。在设缩小侧数值孔径为NA、缩小侧最大像高处的畸变像差为Dst的情况下，满足条件式(1)、条件式(2)：0.2
基本信息
专利标题 ：
投射光学系统和投影仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112147832A
申请号 ：
CN202010595884.5
公开（公告）日 ：
2020-12-29
申请日 ：
2020-06-28
授权号 ：
CN112147832B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
峯藤延孝
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李庆泽
优先权 ：
CN202010595884.5
主分类号 ：
G03B21/14
IPC分类号 ：
G03B21/14 G02B13/00 G02B13/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/14
零部件
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-01-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03B 21/14
申请日 : 20200628
申请日 : 20200628
2020-12-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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