投射方法和投影仪
公开
摘要
提供投射方法和投影仪，在投射面上显示自由度高的投射图像。投射方法包含：检测投影仪(200)与投射面(PS)的第1部分(Q1)之间的第1距离(L1)；检测投影仪(200)与投射面(PS)的第2部分(Q2)之间的第2距离(L2)；检测投影仪(200)与投射面(PS)的第3部分(Q3)之间的第3距离(L3)；投影仪将与第1距离(L1)对应的第1样式(AP1)的图像光(PL)投射到第1部分；投影仪将与第2距离(L2)对应的第2样式(AP2)的图像光投射到第2部分；以及在第3距离大于第1距离且小于第2距离的情况下，投影仪将基于第1样式和第2样式的第3样式(AP3)的图像光投射到第3部分。
基本信息
专利标题 ：
投射方法和投影仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114584753A
申请号 ：
CN202111429937.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吉村顺
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
邓毅
优先权 ：
CN202111429937.7
主分类号 ：
H04N13/30
IPC分类号 ：
H04N13/30 H04N13/324 H04N13/363 G03B21/20
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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