探测基板、其制作方法及射线探测器
实质审查的生效
摘要
本公开提供了一种探测基板、其制作方法及射线探测器，包括：衬底基板；相互独立的多个第一电极，在衬底基板上同层设置；光电转换层，在多个第一电极背离衬底基板的一侧整面设置；射线吸收层，位于光电转换层背离多个第一电极的一侧，射线吸收层在衬底基板上的正投影，与各第一电极之间的间隙在衬底基板上的正投影相互交叠；第二电极，在光电转换层背离多个第一电极的一侧整面设置。
基本信息
专利标题 ：
探测基板、其制作方法及射线探测器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114530466A
申请号 ：
CN202011322997.4
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2020-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尚建兴侯学成王振宇刘自然勇闯
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘源
优先权 ：
CN202011322997.4
主分类号 ：
H01L27/146
IPC分类号 ：
H01L27/146
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/146
申请日 : 20201123
申请日 : 20201123
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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