原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置
授权
摘要
本实用新型涉及离子辐照分析技术领域，且公开了原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有支撑台，所述支撑台的顶部固定安装有摄像模块。该原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置，通过对样品本体的调节，来确保离子光速聚焦在样品表面，通过第一电机的运行其输出轴的转动，带动螺纹杆进行旋转，通过联轴器的安装，使第一电机输出轴与螺纹杆之间的连接更为稳固，通过轴承的安装，使得螺纹杆转动的时候更加平稳，在其转动的过程中，螺纹套在其外表面向上进行移动，支杆带着限定杆和样品本体随着一起运行，来实现对样品本体的高度调节，达到了方便调节的目的。
基本信息
专利标题 ：
原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020089176.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-16
授权号 ：
CN211856406U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
李颜李润发王传真王玲玲吴玉莲杨小祥
申请人 ：
南通励思仪电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市崇川区新城桥街道启秀社区附属用房
代理机构 ：
佛山卓就专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵勇
优先权 ：
CN202020089176.X
主分类号 ：
G01N23/00
IPC分类号 ：
G01N23/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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