一种容性耦合装置及滤波器
授权
摘要
本实用新型公开了一种容性耦合装置。它包括相互连接的两个介质谐振器，所述两个介质谐振器的表面设有导电层，其特征在于：所述两个介质谐振器相连的底面设有环形的电极圈，所述电极圈将两个介质谐振器相连的底面的导电层分割成独立的两部分，两个介质谐振器之间通过所述电极圈实现负耦合。本实用新型在两个介质谐振器的表面设置环形的电极圈，将导电层分割成两部分，通过该电极圈实现两个介质谐振器之间的负耦合，结构简单，加工更方便；同时也可以在电极圈内部设置负耦合孔来配合调节耦合量，设计更合理。
基本信息
专利标题 ：
一种容性耦合装置及滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020123491.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN211208635U
授权日 ：
2020-08-07
发明人 ：
刘文钟伟刚朱晖刘雄
申请人 ：
武汉凡谷陶瓷材料有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江夏区藏龙岛工业园九凤街5号凡谷电子工业园
代理机构 ：
武汉开元知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄行军
优先权 ：
CN202020123491.X
主分类号 ：
H01P1/212
IPC分类号 ：
H01P1/212
法律状态
2020-08-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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