一种容性耦合结构和介质滤波器
授权
摘要
本申请公开了一种容性耦合结构和介质滤波器，其中容性耦合结构包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；金属盲孔和金属通孔连接，且金属盲孔和金属通孔并列设置；金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且隔离圈的形状配合于金属通孔的形状。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
一种容性耦合结构和介质滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020266263.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-06
授权号 ：
CN211125949U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
龙志勇肖利蒙何钟鑫黄伟杰黄万强
申请人 ：
广东国华新材料科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省肇庆市风华路18号风华电子工业园4号楼4-5层
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄忠
优先权 ：
CN202020266263.8
主分类号 ：
H01P1/20
IPC分类号 ：
H01P1/20 H01P5/12
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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