一种具有容性耦合结构的介质滤波器
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摘要
一种具有容性耦合结构的介质滤波器，包括介质滤波器本体、设在所述介质滤波器本体上表面的调谐孔、耦合槽和容性耦合通孔，所述调谐孔数量为六个且为盲孔，所述耦合槽为贯穿所述介质滤波器本体的矩形槽，所述容性耦合通孔位于两个所述调谐孔之间，所述容性耦合通孔包括位于上部的圆柱形小孔以及下部的锥形孔，所述介质滤波器本体的下表面上还设有输入端口和输出端口。本实用新型通过调整锥形孔高度和第二金属镀层面积可以改变耦合量大小，通过调节圆柱形小孔的半径、改变圆柱形小孔上表面的开口状态可以减少电磁泄漏，易于加工制备、调试方便、电磁泄漏少，具有高Q值、低损耗、带外抑制好等性能。
基本信息
专利标题 ：
一种具有容性耦合结构的介质滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020636643.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-24
授权号 ：
CN211929673U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
沈晓宇廖园富
申请人 ：
湖州东尼新材有限公司;浙江东尼电子股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省湖州市吴兴区织里镇利济东路555号
代理机构 ：
杭州昱呈专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
周朝
优先权 ：
CN202020636643.6
主分类号 ：
H01P1/20
IPC分类号 ：
H01P1/20
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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