一种容性耦合装置及滤波器
授权
摘要
本实用新型公开了一种容性耦合装置及滤波器。它至少包括相互连接的第一介质谐振器和第二介质谐振器，所述第一介质谐振器与第二介质谐振器连接位置的本体表面上设有第一隔断层，所述第一隔断层为设有开口的环形圈，所述第一介质谐振器与第二介质谐振器之间设有连接段，所述第一介质谐振器与第二介质谐振器之间通过所述第一隔断层和连接段实现负耦合。本实用新型在两个介质谐振器之间的表面上设置开口的环形的隔断层，通过该隔断层及两个介质谐振器之间的连接段实现两个介质谐振器之间的负耦合，结构简单，加工更方便；同时也可以在隔断层的内侧或外侧设置负耦合盲孔来配合调节耦合量，设计更合理。
基本信息
专利标题 ：
一种容性耦合装置及滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021520816.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
CN212342780U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
刘文钟伟刚朱晖
申请人 ：
武汉凡谷陶瓷材料有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江夏区藏龙岛工业园九凤街5号凡谷电子工业园
代理机构 ：
武汉开元知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄行军
优先权 ：
CN202021520816.4
主分类号 ：
H01P1/20
IPC分类号 ：
H01P1/20 H01P7/10
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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